[发明专利]一种CdS薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种CdS薄膜的制备方法，其涉及太阳能电池技术领域。该方法包括：第一步，制备蒸发源：将源材料和CdCl2加入到分散剂中制成浆料，将所述浆料涂敷在蒸发容器的表面，烘干形成源材料涂层；第二步，近空间升华：在真空条件下，在保护气气氛下，加热蒸发容器，使涂层蒸发，在衬底上沉积成膜；第三步，退火：在沉积完成后，在退火温度下，对其恒温保持10-40min。该方法直接在沉积完成后保温一段时间即可达到退火的目的，减少了对设备的要求和节省了工序。而且能大幅度提高源材料的利用率；还有该方法在制备大面积的CdS薄膜时，其膜厚分布均匀。

主权项

一种CdS薄膜的制备方法，其包括：a、制备蒸发源：将源材料和CdCl2加入到分散剂中制成浆料，将所述浆料涂敷在蒸发容器的表面，烘干形成源材料涂层；b、近空间升华：在10-3-103Pa下，在保护气保护下，加热蒸发容器，使涂层蒸发，在衬底上沉积成膜；c、退火：在沉积完成后，在退火温度下，对其恒温保持10-40min。