[发明专利]一种发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910105809.X 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101820036A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 李群庆;姜开利;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;B82B1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,在该基底的表面依次形成一第一半导体层、一活性层及一第二半导体层;提供一碳纳米管结构,将碳纳米管结构直接铺设在所述第二半导体层的表面,形成一碳纳米管透明导电膜;形成一保护层,覆盖所述碳纳米管结构;除去保护层的第一区域,以暴露出部分碳纳米管结构;在暴露出的碳纳米管结构的表面制备一第一电极;除去保护层的第二区域以及该第二区域以下的碳纳米管结构、第二半导体层和活性层相应部分,以暴露出部分第一半导体层;和在所述暴露出的第一半导体层的表面制备一第二电极。
搜索关键词: 一种 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,在该基底的表面依次形成一第一半导体层、一活性层及一第二半导体层;提供一碳纳米管结构,将碳纳米管结构直接铺设在所述第二半导体层的表面,形成一碳纳米管透明导电膜;形成一保护层,覆盖所述碳纳米管结构;除去保护层的第一区域,以暴露出部分碳纳米管结构;在暴露出的碳纳米管结构的表面制备一第一电极;除去保护层的第二区域以及该第二区域以下的碳纳米管结构、第二半导体层及活性层相应部分,以暴露出部分第一半导体层;及在所述暴露出的第一半导体层的表面制备一第二电极。
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