[发明专利]一种发光二极管的制备方法有效
申请号: | 200910105809.X | 申请日: | 2009-02-27 |
公开(公告)号: | CN101820036A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 李群庆;姜开利;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;B82B1/00 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,在该基底的表面依次形成一第一半导体层、一活性层及一第二半导体层;提供一碳纳米管结构,将碳纳米管结构直接铺设在所述第二半导体层的表面,形成一碳纳米管透明导电膜;形成一保护层,覆盖所述碳纳米管结构;除去保护层的第一区域,以暴露出部分碳纳米管结构;在暴露出的碳纳米管结构的表面制备一第一电极;除去保护层的第二区域以及该第二区域以下的碳纳米管结构、第二半导体层和活性层相应部分,以暴露出部分第一半导体层;和在所述暴露出的第一半导体层的表面制备一第二电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,在该基底的表面依次形成一第一半导体层、一活性层及一第二半导体层;提供一碳纳米管结构,将碳纳米管结构直接铺设在所述第二半导体层的表面,形成一碳纳米管透明导电膜;形成一保护层,覆盖所述碳纳米管结构;除去保护层的第一区域,以暴露出部分碳纳米管结构;在暴露出的碳纳米管结构的表面制备一第一电极;除去保护层的第二区域以及该第二区域以下的碳纳米管结构、第二半导体层及活性层相应部分,以暴露出部分第一半导体层;及在所述暴露出的第一半导体层的表面制备一第二电极。
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