[发明专利]一种高功率密度激光溅射电离飞行时间质谱仪及其应用无效

专利信息
申请号: 200910110850.6 申请日: 2009-01-09
公开(公告)号: CN101465261A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 杭纬 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: H01J49/40 分类号: H01J49/40;G01N27/64
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 代理人: 马应森;刘 勇
地址: 361005福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种高功率密度激光溅射电离飞行时间质谱仪及其应用,涉及一种质谱仪。提供一种高功率密度激光溅射电离飞行时间质谱仪及其应用。设有真空腔体、激光光源、激光聚焦透镜、采样锥、离子传输装置、截取锥和飞行时间质量分析器;激光光源和激光聚焦透镜设于真空腔体外部,采样锥、离子传输装置、截取锥和飞行时间质量分析器依次设于真空腔体中。真空腔体设有三级真空室,一级真空室设于采样锥之前,二级真空室设于采样锥与截取锥之间,三级真空室设于截取锥之后。通过与离子源内辅气分子(原子)的碰撞,样品离子的动能得到降低,有利采样和传输;多价离子得以降价而转换为单价离子,可去除多价离子的干扰峰,使谱图清晰易读,分辨能力强。
搜索关键词: 一种 功率密度 激光 溅射 电离 飞行 时间 质谱仪 及其 应用
【主权项】:
1、一种高功率密度激光溅射电离飞行时间质谱仪,其特征在于设有真空腔体、激光光源、激光聚焦透镜、采样锥、离子传输装置、截取锥和飞行时间质量分析器;激光光源和激光聚焦透镜设于真空腔体外部,采样锥、离子传输装置、截取锥和飞行时间质量分析器依次设于真空腔体中。
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