[发明专利]光学基片隐形图案的制备方法有效
| 申请号： | 200910111753.9 | 申请日： | 2009-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN101551527A | 公开（公告）日： | 2009-10-07 |
| 发明（设计）人： | 杨敏男 | 申请（专利权）人： | 厦门美澜光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02C7/02 | 分类号： | G02C7/02;G02C7/10 |
| 代理公司： | 厦门市诚得知识产权代理事务所 | 代理人： | 方惠春;刘 辉 |
| 地址： | 361022福建省厦门市海*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光学基片隐形图案的制备方法，属于光学镜片上设置图案类制造技术领域。本发明是将光学基片镀隐形图案的制备方法，基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具然后放置于真空度抽至至少5*10-5Torr的高真空机台内；通过离子束轰击镂空部分的基片表层(轰击时间大约3-15分钟)，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形图案。此镂空部分基片由于折射率低，而且厚度相对较薄，因而不易被肉眼所看到，而当遇到蒸汽时，图案部分就会出现雾状，呈现出来图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 隐形 图案 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、光学基片隐形图案的制备方法，其特征在于包括如下步骤：一)、基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具然后放置于真空度抽至1×10-5Torr到5×10-5Torr的高真空机台内；二)、通过离子束轰击镂空部分的基片表层，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形的图案。
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