[发明专利]测定痕量钼的催化反应-共振散射光谱法无效
| 申请号： | 200910114141.5 | 申请日： | 2009-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101576490A | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 蒋治良;覃惠敏;凌秀超;康彩艳 | 申请（专利权）人： | 广西师范大学 |
| 主分类号： | G01N21/49 | 分类号： | G01N21/49 |
| 代理公司： | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 | 代理人： | 孙伊滨 |
| 地址： | 541004广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测定痕量钼的催化反应-共振散射光谱法，其特征是：包括如下步骤：(1)制备钼的标准体系；(2)制备空白对照体系；(3)取适量于石英池中，置于荧光分光光度计上，同步扫描(λem＝λex)，测定540nm处的共振散射光强度I540nm，空白体系的空白值为(I540nm)b，计算ΔI540nm＝I540nm-(I540nm)b；(4)以ΔI540nm对钼的浓度关系作工作曲线；(5)依照步骤(1)的方法制备检测体系，求出被测物的ΔI540nm；(6)依据(4)的工作曲线，计算出被测物的钼的浓度。此方法具有灵敏度高、选择性好、操作简便、安全无毒、所用试剂便宜等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 痕量 催化 反应 共振 散射 光谱 | ||
【主权项】：
1.一种测定痕量钼的催化反应-共振散射光谱法，其特征是：测定方法包括如下步骤：(1)制备钼的标准体系：依次移取0.3mL的0.012M碲酸钠，一定量的钼离子催化剂，0.75mL的0.9M二氯化锡，于5.0mL刻度试管，定容到3.0mL，即Na2TeO4的浓度为1.2mM，二氯化锡浓度为0.225M，然后置于65℃恒温水浴反应6min；(2)用步骤(1)的方法制备空白对照体系，不加钼离子催化剂；(3)取适量于石英池中，置于CARY ECLIPSE荧光分光光度计上，电压设为400V，狭缝设为5nm，同步扫描，得到体系的共振散射光谱；测定540nm处的共振散射光强度I540nm，不加痕量钼离子作催化剂为空白反应并测定其空白值，计算ΔI540nm＝I540nm-I空白；(4)以ΔI540nm对钼的浓度关系作工作曲线；(5)依照步骤(1)的方法制备检测体系，其中加入含有钼但未知浓度的被测物，求出被测物的ΔI540nm；(6)依据(4)的工作曲线，计算出被测物的钼的浓度。
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