[发明专利]铁含量低的喷涂Si-或Si∶Al-靶无效
| 申请号： | 200910118118.3 | 申请日： | 2009-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101519768A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 罗兰·特拉斯里;沃尔夫·福瑞特切 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C23C24/00;C23C4/06;C23C4/12;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵 飞;南 霆 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种铁含量低的喷涂Si-或Si∶Al-靶。提供一种用于溅射含硅膜的旋转溅射靶。该靶包括含硅溅射材料层(104)；以及载体(102)，其用于承载溅射材料，其中，溅射材料层包含低于200ppm的铁。 | ||
| 搜索关键词： | 含量 喷涂 si al | ||
【主权项】：
1. 一种用于溅射含硅膜的旋转溅射靶，包括：含硅溅射材料层(104)以及载体，用于承载所述溅射材料层，其中，所述溅射材料层包含低于200ppm的铁。
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