[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910118292.8 申请日: 2009-03-03
公开(公告)号: CN101626001A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 鹿野武敏 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/31;H01L21/60;H01L21/56
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 闫小龙;李家麟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体装置及其制造方法。本发明的半导体装置具有半导体芯片(13f)。导电部(11f)设置在主面(MS)上,并且有具有导电性和延展性的材料构成。密封树脂部(15)具有与主面(MS)正对的表面(SF)。电极(12fu)设置在导电部(11f)上,并且在导电部(11f)和表面(SF)之间贯通密封树脂部(15)。由此,提供一种能够小型化的半导体装置。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备:具有主面的半导体芯片;设置在所述主面上,并且由具有导电性和延展性的材料构成的导电部;具有与主面正对的表面的密封树脂部;以及设置在所述导电部上,并且在所述导电部和所述表面之间贯通所述密封树脂部的电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910118292.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top