[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法无效
| 申请号： | 200910126047.1 | 申请日： | 2004-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101526758A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 白石直正 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是有关一种投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法。其中照明光学装置及投影曝光装置，在以所定偏光(optical polarization)状态的照明光照明掩膜(mask)之际，可使光量损失减少。前述投影曝光装置包括将来自光源的照明光照射于第一物体的照明光学系统与将前述第一物体上的图案像投影于第二物体上的投影光学系统，其中前述光源生成以单一的直线偏光为主成分的状态的照明光。前述照明光学系统配置于前述照明光的光路，且包括圆锥棱镜与双折射构件。前述双折射构件使照射于前述第一物体的特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。 | ||
| 搜索关键词： | 投影机 曝光 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光装置，包括将来自光源的照明光照射于第一物体的照明光学系统与将前述第一物体上的图案像投影于第二物体上的投影光学系统，其中前述光源生成以单一的直线偏光为主成分的状态的照明光，且前述投影曝光装置的特征在于：前述照明光学系统，配置于前述照明光的光路，且包括圆锥棱镜与双折射构件；且前述双折射构件，使照射于前述第一物体的特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910126047.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于制袋的设备及其方法
- 下一篇：用于校准转矩扳手的操作设备
