[发明专利]MOS集成电路、以及具备其的电子设备无效

专利信息
申请号: 200910126853.9 申请日: 2009-03-20
公开(公告)号: CN101546996A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 青池昌洋 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H03K5/24 分类号: H03K5/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种MOS集成电路以及具备其的电子设备,能降低比较器高速工作时的消耗功率。电压电流转换电路(103)将第1以及第2电压(Vinp、Vinn)转换成具有与第1电压(Vinp)对应的电流值的第1电流(I(Vinp))、以及具有与第2电压(Vinn)对应的电流值的第2电流(I(Vinn))。电流比较电路(104)比较第1以及第2电流(I(Vinp)、I(Vinn))的电流值的大小,输出表示比较结果的电压。构成电流比较电路(104)的MOS晶体管的氧化膜比构成电压电流转换电路(103)的MOS晶体管的氧化膜薄。
搜索关键词: mos 集成电路 以及 具备 电子设备
【主权项】:
1、一种MOS集成电路,比较第1以及第2电压的大小,其特征在于,具备:电压电流转换电路,将所述第1以及第2电压转换成具有与所述第1电压对应的电流值的第1电流、以及具有与所述第2电压对应的电流值的第2电流;和电流比较电路,比较所述第1以及第2电流的电流值的大小,输出表示比较结果的电压,从包含该MOS集成电路的LSI的外部输入所述第1以及第2电压,构成所述电流比较电路的MOS晶体管的氧化膜比构成所述电压电流转换电路的MOS晶体管的氧化膜薄。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910126853.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top