[发明专利]真空镀膜装置及镀膜方法有效

专利信息
申请号: 200910127236.0 申请日: 2009-03-09
公开(公告)号: CN101831611A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 吴金宝;陈肇英;施进德;吕明生 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/56
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 陈红
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明揭示一种真空镀膜装置,其包括:一阴极靶材、多个阳极、一运送装置、一脉冲电弧放电装置、以及一脉冲激光装置。运送装置用以放置及移动阳极,使每一阳极依序经过一可操作位置。脉冲电弧放电装置电性连接阴极靶材与位于可操作位置的阳极,用以在一真空腔体内产生等离子来进行镀膜。脉冲激光装置设置于真空腔体外,用以提供一脉冲激光束至阴极靶材表面,以作为一等离子触发器。本发明亦揭示一种镀膜方法,适用于上述真空镀膜装置。
搜索关键词: 真空镀膜 装置 镀膜 方法
【主权项】:
一种真空镀膜装置,其特征在于,包括:一阴极靶材;多个阳极;一运送装置,用以放置及移动该多个阳极,使每一阳极依序经过一可操作位置;一脉冲电弧放电装置,电性连接该阴极靶材与位于该可操作位置的该阳极,用以在该一真空腔体内产生等离子来进行镀膜;以及一脉冲激光装置,设置于该真空腔体外,用以提供一脉冲激光束至该阴极靶材表面,以作为一等离子触发器。
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