[发明专利]连续电镀铜的方法有效

专利信息
申请号: 200910127431.3 申请日: 2009-03-11
公开(公告)号: CN101532160A 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: 大村直之;礒野敏久;清水宏治;立花真司;川濑智弘;星俊作 申请(专利权)人: 上村工业株式会社
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D21/14;C25D21/18
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李 帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种连续电镀铜的方法,其是在收纳有硫酸铜镀浴的镀槽中,使用不溶性阳极作为阳极,以被镀物为阴极,对被镀物进行电镀铜的方法,在该方法中,设置与镀槽不同的铜溶解槽,将镀浴转移到铜溶解槽中,并使镀浴从铜溶解槽返回到镀槽,由此使镀浴在镀槽和铜溶解槽之间循环,通过进一步在铜溶解槽中投入铜离子的补给盐并使其溶解,补给因电镀而消耗的镀浴的铜离子,连续进行电镀,该方法的特征在于,在阳极和阴极之间,镀浴可以移动,在镀浴从铜溶解槽返回到镀槽的过程中,使镀浴返回到电镀中的阳极附近,由此可以氧化分解用于补给铜离子的铜离子的补给盐溶解时产生的妨碍电镀性能的成分,可以防止妨碍电镀性能的成分引起的电镀不良。
搜索关键词: 连续 镀铜 方法
【主权项】:
1. 一种连续电镀铜的方法,其是在收纳有硫酸铜镀浴的镀槽中,使用不溶性阳极作为阳极,以被镀物为阴极,对所述被镀物进行电镀铜的方法,在所述方法中,设置与所述镀槽不同的铜溶解槽,将镀浴转移到该铜溶解槽中,并使镀浴从铜溶解槽返回到所述镀槽,由此使镀浴在所述镀槽和所述铜溶解槽之间循环,通过进一步在上述铜溶解槽中投入铜离子的补给盐并使其溶解,补给因电镀而消耗的镀浴中的铜离子,连续进行电镀,所述方法的特征在于,在不使所述阳极和阴极隔离或者用隔膜使镀浴可在该隔膜的阳极侧和阴极侧之间移动地将所述阴极和阳极隔离,在镀浴从所述铜溶解槽返回到所述镀槽的过程中,使镀浴返回到电镀中的阳极附近。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上村工业株式会社,未经上村工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910127431.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top