[发明专利]图案形成材料和图案形成方法无效
申请号: | 200910128224.X | 申请日: | 2002-09-12 |
公开(公告)号: | CN101673051A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 岸村真治;远藤政孝;笹子胜;上田充;藤之谷刚彦 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种具有含以[化1]所表示的单元与以[化2]所表示的单元的基体树脂和酸产生剂的图案形成材料,(其中,R1和R3是相同或不同,是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基;R2是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基,是不由酸而离去的原子或基团;R4是由酸而离去的保护基;m为0~5的整数;a和b满足0<a<1、0<b<1和0<a+b≤1。) | ||
搜索关键词: | 图案 形成 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图案形成材料,其特征在于,具有含以[化1]所表示的第1单元和以[化2]所表示的第2单元的基体树脂和酸产生剂,[化1][化2]其中,R1和R3是相同或不同,是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基;R2是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基,是不由酸而离去的原子或基团;R4是由酸而离去的保护基;m为0~5的整数;a和b满足0<a<1、0<b<1和0<a+b≤1。
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