[发明专利]平板印刷用防护薄膜组件有效
申请号: | 200910129926.X | 申请日: | 2009-04-01 |
公开(公告)号: | CN101551587A | 公开(公告)日: | 2009-10-07 |
发明(设计)人: | 滨田裕一 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供一种平板印刷用防护薄膜组件,其曝光原版接合用粘着剂不会超溢出防护薄膜组件框架整体宽度而能稳定设置,藉此提高半导体制造成品率。为达成上述目的,本发明的平板印刷用防护薄膜组件,其在防护薄膜组件框架一端面涂布防护薄膜接合剂以铺设防护薄膜,在另一端面涂布曝光原版接合用粘着剂,其特征为:在该防护薄膜组件框架的防护薄膜接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部以及曝光原版接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部实施斜面倒角加工,该防护薄膜组件框架的曝光原版接合面的倒角尺寸比C0.35大且在C0.55以下。 | ||
搜索关键词: | 平板 印刷 防护 薄膜 组件 | ||
【主权项】:
1、一种平板印刷用防护薄膜组件,其在防护薄膜组件框架一端面上涂布防护薄膜接合剂以铺设防护薄膜,在另一端面上涂布曝光原版接合剂,其特征为:在该防护薄膜组件框架的防护薄膜接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部上以及曝光原版接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部上实施斜面倒角加工,该防护薄膜组件框架的曝光原版接合面的倒角尺寸大于C0.35而在C0.55以下。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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