[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200910133537.4 | 申请日： | 2005-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN101520611A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | A·Y·科勒斯恩臣科;J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多纳斯;C·A·胡根达姆;H·詹森;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;F·G·P·皮特斯;B·斯特里科克;F·J·H·M·特尤尼斯森;H·范桑坦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光刻装置，包括：用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到所述基底的目标部分上的投影系统；以及用于向基底的局部区域、基底台或其两者供应液体的供液系统，以至少部分地填充所述投影系统与所述基底、所述基底台或其两者之间的空间，其中所述基底台包括用于收集液体的阻挡构件，所述阻挡构件环绕所述基底并与所述基底分隔开，且所述阻挡构件位于环绕所述基底外围边缘的排水沟的径向外侧。
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