[发明专利]一种控制刀圈以防止显影液残留的方法无效
| 申请号： | 200910133660.6 | 申请日： | 2009-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN101859073A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 陈俊秀 | 申请（专利权）人： | 和舰科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 215025 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种控制刀圈以防止显影液残留的方法，在该方法中该刀圈以可活动方式设置在晶片背面，与晶片背面之间留有预定的间隙；清洗晶片背面前上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第一间隙；清洗晶片背面时上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第二间隙；且上述第二间隙大于上述第一间隙。本发明的方法既可防止显影液流入晶背中心又可以彻底清洗晶背，解决了晶背显影液残留问题，从而能够提高产品合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 防止 显影液 残留 方法 | ||
【主权项】：
一种控制刀圈以防止显影液残留的方法，其特征在于该刀圈以可活动方式设置在晶片背面，与晶片背面之间留有预定的间隙；清洗晶片背面前上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第一间隙；清洗晶片背面时上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第二间隙；且上述第二间隙大于上述第一间隙。
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