[发明专利]薄膜晶体管的结构有效

专利信息
申请号: 200910133889.X 申请日: 2006-01-24
公开(公告)号: CN101567391A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 石志鸿 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/417;H01L21/336
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邱 军
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管的结构。该薄膜晶体管的结构包括一栅极,设置于一基板上;一绝缘层,设置于该基板与该栅极上;一半导体层,设置于部分的该绝缘层上,并且部分该半导体层被定义为一沟道区;一欧姆接触层,设置于该半导体层上;以及一金属层,设置于该欧姆接触层上,并被区分为一源/漏极分别位于该沟道区的两侧,且部分该源/漏极的远离该沟道区的一侧具有至少一第一斜角的侧边。部分该源/漏极的一侧还包括至少一第二斜角的侧边,且该第二斜角的侧边相邻于该第一斜角的侧边,部分该半导体层的一侧具有一阶梯状的侧边。
搜索关键词: 薄膜晶体管 结构
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管的结构,包括:一栅极,设置于一基板上;一绝缘层,设置于该基板与该栅极上;一半导体层,设置于部分的该绝缘层上,并且部分该半导体层被定义为一沟道区;一欧姆接触层,设置于该半导体层上;以及一金属层,设置于该欧姆接触层上,并被区分为一源/漏极分别位于该沟道区的两侧,且部分该源/漏极的远离该沟道区的一侧具有至少一第一斜角的侧边,其中部分该源/漏极的一侧还包括至少一第二斜角的侧边,且该第二斜角的侧边相邻于该第一斜角的侧边,部分该半导体层的一侧具有一阶梯状的侧边。
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