[发明专利]集成电路有效

专利信息
申请号: 200910134052.7 申请日: 2009-04-08
公开(公告)号: CN101740568A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 侯永清;郭大鹏;庄学理;卡罗斯·迪雅兹;鲁立忠;田丽钧;罗明健;张志强;戴春晖;李芳松 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H01L27/088
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种集成电路。上述集成电路包括一有源区域于一半导体基板中;一第一场效应晶体管(FET)设置于该有源区域中;以及一隔离结构设置于该有源区域中。上述场效应晶体管(FET)包括一第一栅极;一第一源极形成于该有源区域中,且设置于一第一区域上,邻接该第一栅极;以及一第一漏极形成于该有源区域中,且设置于一第二区域上,邻接该栅极。上述隔离结构包括一隔离栅极设置于邻接该第一漏极;以及一隔离源极形成于该有源区域中,且设置于邻接该隔离栅极使得该隔离源极和该第一漏极位于该隔离栅极的不同边处。本发明可以很好地保证元件的有源区域的连续性。
搜索关键词: 集成电路
【主权项】:
一种集成电路,包括:一有源区域于一半导体基板中;以及一第一场效应晶体管设置于该有源区域中,其中该场效应晶体管包括:一第一栅极;一第一源极形成于该有源区域中,且设置于一第一区域上,邻接该第一栅极;以及一第一漏极形成于该有源区域中,且设置于一第二区域上,邻接该栅极;以及一隔离结构设置于该有源区域中,其中该隔离结构包括:一隔离栅极设置于邻接该第一漏极;以及一隔离源极形成于该有源区域中,且设置于邻接该隔离栅极使得该隔离源极和该第一漏极位于该隔离栅极的不同边处。
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