[发明专利]用于直写晶片的系统和方法在审
| 申请号： | 200910136076.6 | 申请日： | 2009-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101566802A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 林本坚;陈政宏;林世杰;高蔡胜 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市德恒律师事务所 | 代理人： | 马佑平;马铁良 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种直写曝光系统，包括载物台，用于支撑衬底并配置为在曝光期间沿轴扫描衬底，数据处理模块，用于处理构图数据并生成相关于构图数据的指令，以及曝光模块，包括聚焦在衬底上的多个光束，以使光束覆盖的宽度大于区域尺寸的宽度，以及光束控制器，其在衬底沿轴扫描时根据指令控制多个光束。所述宽度的方向与轴不同。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 晶片 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种直写(DW)曝光系统，包括：载物台，用于支撑衬底，并配置为在曝光期间沿轴扫描所述衬底；数据处理模块，用于处理构图数据并生成所述构图数据相关的指令；以及曝光模块，包括：多个光束，其聚焦于衬底使得所述光束覆盖的宽度大于所述曝光系统的区域尺寸的宽度，所述宽度的方向不同于所述轴；以及光束控制器，其在所述衬底沿所述轴被扫描时根据所述指令控制所述多个光束。
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