[发明专利]半导体基板洗涤液组合物无效
| 申请号： | 200910136547.3 | 申请日： | 2009-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN101580774A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 村上丰;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张 晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种半导体基板洗涤液组合物，其在半导体电路元件的制备工序中，可以去除基板表面的金属杂质而不腐蚀铜布线。本发明的清洗半导体基板的洗涤液，为含有一种或两种以上的脂肪族多元羧酸类和一种或两种以上的碱性氨基酸类的洗涤液组合物，由此，在具有铜布线的半导体基板的清洗工序中，特别是在化学机械抛光(CMP)后的铜布线裸露的半导体基板的清洗工序中，可以去除金属杂质而不腐蚀铜布线。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 洗涤液 组合 | ||
【主权项】：
1、一种清洗半导体基板的洗涤液组合物，其特征在于，所述洗涤液组合物含有一种或两种以上的脂肪族多元羧酸类和一种或两种以上的碱性氨基酸类。
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