[发明专利]非易失性存储装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200910136928.1 | 申请日： | 2009-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN101615656A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 具俊谟;金锡必;尹泰应 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L45/00 | 分类号： | H01L45/00;H01L27/24;H01L21/82 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;刘奕晴 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种非易失性存储装置及其制造方法。所述非易失性存储装置可以以堆叠的结构延伸，因此可以高度集成。所述非易失性存储装置包括：至少一个第一电极；至少一个第二电极，与所述至少一个第一电极交叉；至少一个数据存储层，设置在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极之间，并在所述至少一个第一电极与所述至少一个第二电极交叉的区域处；至少一个金属硅化物层，设置在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极之间，并在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极交叉的区域处。 | ||
| 搜索关键词： | 非易失性 存储 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种非易失性存储装置，包括：至少一个第一电极；至少一个第二电极，与所述至少一个第一电极交叉；至少一个数据存储层，设置在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极之间，并在所述至少一个第一电极与所述至少一个第二电极交叉的区域处；至少一个金属硅化物层，设置在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极之间，并在所述至少一个第一电极和所述至少一个第二电极交叉的区域处。
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