[发明专利]用于成像设备的单片密封构件及其制造方法无效
申请号: | 200910138283.5 | 申请日: | 2009-05-31 |
公开(公告)号: | CN101633226A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 金支坤;河东秀;姜文求;朴修奉 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | B29C44/02 | 分类号: | B29C44/02;B29C44/60;G03G15/08;F16J15/10;B29K75/00;B29L31/26 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;李娜娜 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种用于成像设备的单片密封构件及其制造方法。所述方法包括:将发泡聚氨酯液体施加到壳体的三个或多个表面相遇的一部分中;在模具中模制发泡聚氨酯液体,并使所述聚氨酯液体发泡以获得聚氨酯泡沫;使所述聚氨酯泡沫硬化。发泡聚氨酯液体可以是单组分发泡聚氨酯液体或双组分发泡聚氨酯液体。 | ||
搜索关键词: | 用于 成像 设备 单片 密封 构件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种制造用于成像设备的单片密封构件的方法,包括:将发泡聚氨酯液体施加到壳体的三个或更多个表面相遇的一部分中;在模具中模制发泡聚氨酯液体,并使所述发泡聚氨酯液体发泡以获得聚氨酯泡沫;使所述聚氨酯泡沫硬化,其中,所述发泡聚氨酯液体是单组分发泡聚氨酯液体和双组分发泡聚氨酯液体中的一种。
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