[发明专利]非易失性存储器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910140052.8 申请日: 2009-07-10
公开(公告)号: CN101626023A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 金锡必;朴允童;具俊谟;尹泰应 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/423;H01L21/8247
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张 波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种非易失性存储器及其制造方法,该非易失性存储器包括:第一半导体层,沿第一方向延伸;第二半导体层,平行于第一半导体层延伸并与第一半导体层分隔开;隔离层,在第一半导体层与第二半导体层之间;第一控制栅极电极,在第一半导体层与隔离层之间;第二控制栅极电极,在第二半导体层与隔离层之间,其中第二控制栅极电极和第一控制栅极电极分别设置在隔离层的相反侧;第一电荷存储层,在第一控制栅极电极与第一半导体层之间;以及第二电荷存储层,在第二控制栅极电极与第二半导体层之间。
搜索关键词: 非易失性存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种非易失性存储器,包括:第一半导体层,沿第一方向延伸;第二半导体层,平行于所述第一半导体层延伸并与所述第一半导体层分隔开;隔离层,在所述第一半导体层与所述第二半导体层之间;第一控制栅极电极,在所述第一半导体层与所述隔离层之间;第二控制栅极电极,在所述第二半导体层与所述隔离层之间,其中所述第二控制栅极电极和所述第一控制栅极电极分别设置在所述隔离层的相反侧;第一电荷存储层,在所述第一控制栅极电极与所述第一半导体层之间;以及第二电荷存储层,在所述第二控制栅极电极与所述第二半导体层之间。
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