[发明专利]一种存储装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910140168.1 申请日: 2009-07-08
公开(公告)号: CN101740602A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 龙翔澜;赖二琨;施彦豪;陈逸舟;陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L21/8222;G11C11/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种存储装置及其制造方法。一种存储装置包含具有一PN结的一驱动器,该PN结是以包含一第一导电类型的一第一掺杂半导体区域以及不同于该第一导电类型的一第二导电类型的一第二掺杂半导体区域所形成,该第一掺杂半导体和该第二掺杂半导体之间定义一PN结,其中该第一掺杂半导体区域是以一单晶半导体所形成,以及该第二掺杂半导体区域包含一多晶半导体。同时,本发明揭露一种制造包含在一单晶半导体,像是在一半导体晶圆上,形成一第一导电类型的一第一掺杂半导体区域,以及形成不同于该第一导电类型的一第二导电类型的一第二掺杂多晶半导体区域,以定义在该第一掺杂多晶半导体区域和该第二掺杂多晶半导体区域之间出一PN结。
搜索关键词: 一种 存储 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种存储单元,包含一存取装置,其特征在于,包括:一第一掺杂半导体区域具有一第一导电类型;以及一第二掺杂半导体区域具有不同于第一导电类型的一第二导电类型,在该第一掺杂半导体区域及该第二掺杂半导体区域之间定义一PN结;其中该第一掺杂半导体区域形成于一单晶半导体,以及该第二掺杂半导体区域包含一多晶半导体;其中该第二掺杂半导体区域的掺杂浓度高于该第一掺杂半导体区域的掺杂浓度的10倍以上。
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