[发明专利]一种存储装置及其制造方法无效
申请号: | 200910140168.1 | 申请日: | 2009-07-08 |
公开(公告)号: | CN101740602A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 龙翔澜;赖二琨;施彦豪;陈逸舟;陈士弘 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L21/8222;G11C11/56 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种存储装置及其制造方法。一种存储装置包含具有一PN结的一驱动器,该PN结是以包含一第一导电类型的一第一掺杂半导体区域以及不同于该第一导电类型的一第二导电类型的一第二掺杂半导体区域所形成,该第一掺杂半导体和该第二掺杂半导体之间定义一PN结,其中该第一掺杂半导体区域是以一单晶半导体所形成,以及该第二掺杂半导体区域包含一多晶半导体。同时,本发明揭露一种制造包含在一单晶半导体,像是在一半导体晶圆上,形成一第一导电类型的一第一掺杂半导体区域,以及形成不同于该第一导电类型的一第二导电类型的一第二掺杂多晶半导体区域,以定义在该第一掺杂多晶半导体区域和该第二掺杂多晶半导体区域之间出一PN结。 | ||
搜索关键词: | 一种 存储 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种存储单元,包含一存取装置,其特征在于,包括:一第一掺杂半导体区域具有一第一导电类型;以及一第二掺杂半导体区域具有不同于第一导电类型的一第二导电类型,在该第一掺杂半导体区域及该第二掺杂半导体区域之间定义一PN结;其中该第一掺杂半导体区域形成于一单晶半导体,以及该第二掺杂半导体区域包含一多晶半导体;其中该第二掺杂半导体区域的掺杂浓度高于该第一掺杂半导体区域的掺杂浓度的10倍以上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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