[发明专利]投影光学系统、曝光装置以及器件制造方法

摘要

提供投影光学系统、曝光装置和器件制造方法。在物体面至像面的光路中依次配置第一凹反射面、凸反射面、第二凹反射面，将配置于物体面的物体的像投影到像面的投影光学系统具备配置在光路中的第一、第二折射光学单元；第一致动器；第二致动器，第一、第二折射光学单元分别具有两个以上柱状面，第一折射光学单元能调整第一方向上的投影光学系统的投影倍率，第二折射光学单元能调整与第一方向正交的第二方向上的投影光学系统的投影倍率，第一致动器变更第一折射光学单元的两个以上柱状面的间隔以使第一方向上的投影倍率成为第一目标投影倍率，第二致动器变更第二折射光学单元的两个以上柱状面的间隔以使第二方向上的投影倍率成为第二目标投影倍率。

主权项

1.一种投影光学系统，在从物体面至像面的光路中依次配置有第一凹反射面、凸反射面、第二凹反射面，将配置于上述物体面上的物体的像投影到上述像面，该投影光学系统的特征在于，具备：配置在上述光路中的第一折射光学单元以及第二折射光学单元；第一致动器，对上述第一折射光学单元进行驱动；以及第二致动器，对上述第二折射光学单元进行驱动，上述第一折射光学单元以及上述第二折射光学单元分别具有两个以上的柱状面，上述第一折射光学单元配置为能够调整第一方向上的上述投影光学系统的投影倍率，上述第二折射光学单元构成为能够调整与上述第一方向正交的第二方向上的上述投影光学系统的投影倍率，上述第一致动器变更上述第一折射光学单元的两个以上的柱状面的间隔，以使上述第一方向上的投影倍率成为第一目标投影倍率，上述第二致动器变更上述第二折射光学单元的两个以上的柱状面的间隔，以使上述第二方向上的投影倍率成为第二目标投影倍率。