[发明专利]用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910141789.1 申请日: 2009-05-15
公开(公告)号: CN101582365A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: D·钟;D·M·格雷;M·赫伯特;D·M·利普金;T·拉伯;G·A·施泰恩拉格;T·C·蒂尔尼 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01J35/08 分类号: H01J35/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;杨松龄
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法。一种用于产生X射线(14)的靶组件(56),包括靶基体(57)以及施加到靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98),辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包含碳化物和碳氮化物中的一种或多种。
搜索关键词: 用于 增加 射线 中的 辐射 传热 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于产生x射线(14)的靶组件(56),包括:靶基体(57);以及施加到所述靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98),所述辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。
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