[发明专利]浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910141992.9 | 申请日： | 2009-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101576718A | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | M·瑞鹏;N·R·凯姆波;J·P·M·B·沃麦乌伦;D·J·M·迪莱克斯;D·M·H·飞利浦斯;A·J·范普腾 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中，液体去除装置布置成：例如在曝光期间，通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩(hood)中的弯液面钉扎装置，或用在干燥装置中以从衬底上去除液滴。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 设备 干燥 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：衬底台，其构造用于保持衬底；和液体处理结构，其布置用以从衬底台的表面、所述衬底台保持的衬底的表面、或所述衬底台和所述衬底的表面去除液体，所述液体处理结构包括沿一条线布置的液体抽取开口的阵列，每个所述液体抽取开口在各自的伸长方向上是细长的，并且所述伸长方向与所述线之间成大于0的角度。
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