[发明专利]采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法有效

专利信息
申请号: 200910142306.X 申请日: 2009-05-27
公开(公告)号: CN101598896A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 袁铭辉;陈景朗;杨诚 申请(专利权)人: 香港科技大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004;H05K3/12
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 丁业平;张天舒
地址: 中国香港*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明涉及采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法。通过将紫外线辐射反应材料施加到印刷用的图案化的转移表面上,使得所述图案化的转移表面的润湿性和印刷转移性得到增强。在将印刷材料转移到基板的过程中,紫外线激发所述紫外线辐射反应材料。该技术能够增加印刷精度,并且可用于将印刷材料转移到基板上,以在印刷基板上建立印刷电路部件(如电路走线)和印刷电路元件。在一个特定的构造中,紫外线辐射反应材料可以由自由基引发剂或偶氮苯材料组成。
搜索关键词: 采用 紫外线 辐射 反应 材料 结构 进行 印刷 方法
【主权项】:
1.一种用于印刷具有电性能的图案的设备,该设备包括:压印模,其包括图案化的转移表面,该图案化的转移表面能够将印刷材料从所述压印模转移到基板上,以在所述基板上建立印刷电路部件和印刷电路元件,所述印刷电路部件例如为电路走线;用于按照对应于电路设计的图案、将紫外线辐射反应材料施加到所述图案化的转移表面上的机构;用于将印刷材料施加到所述图案化的转移表面上作为涂层的机构;光化光源;及用于使用所述压印模将所述图案化的转移表面上的所述印刷材料转移到工件的工作表面上的机构。
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