[发明专利]一种原位合成基因芯片的制作装置无效
| 申请号： | 200910144209.4 | 申请日： | 2009-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101963762A | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 胡亦宁;张威 | 申请（专利权）人： | 胡亦宁;张威 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G03F1/00;G02F1/13;C12Q1/68 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所 34114 | 代理人： | 金惠贞 |
| 地址： | 100081 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种原位合成基因芯片的制作装置。该装置包括曝光光源、电子可编程掩膜版和基板，所述电子可编程掩膜版为液晶开关单元阵列；每个液晶开关单元包括同轴设置的起偏器、液晶单元和检偏器，与起偏器和检偏器相对的液晶单元的两侧面分别为透明正电极或透明负电极，透明正电极和透明负电极之间连接电源；曝光光源和电子可编程掩膜版与计算机电连接。本发明使用计算机控制的电子可编程掩膜版，是曝光图型能够根据计算机程序自动生成和实时在基板上曝光，从而快速方便地在基板上产生各层所需的曝光区域，合成事先程序设计的各种DNA序列；免去了光掩膜版的更换和清洁过程，提高了光刻合成的速度和效率，减小错误率；节约了成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原位 合成 基因芯片 制作 装置 | ||
【主权项】：
一种原位合成基因芯片的制作装置，包括曝光光源、光掩膜版和基板，所述曝光光源位于光掩膜版的上方，所述基板位于光掩膜版的下方；与光掩膜版相对的基板表面设有感光敏抗蚀层；其特征在于：所述光掩膜版为电子可编程掩膜版，所述电子可编程掩膜版为液晶开关单元阵列；所述每个液晶开关单元包括同轴设置的起偏器、液晶单元和检偏器，与起偏器和检偏器相对的液晶单元的两侧面分别为透明正电极或透明负电极，透明正电极和透明负电极之间连接电源；所述曝光光源和电子可编程掩膜版与计算机电连接。
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