[发明专利]多晶硅还原炉在审
| 申请号： | 200910144612.7 | 申请日： | 2009-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101993080A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 沈晓明 | 申请（专利权）人： | 张家港市华凌化工机械有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所 32209 | 代理人： | 黄春松 |
| 地址： | 215634 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多晶硅还原炉，包括有炉罩，底盘，多晶硅硅棒，进料管和喷头，炉罩安装在底盘上，底盘上安装有至少一组多晶硅硅棒，同时底盘上还设有与底盘下部的进料管连通的喷头，喷头为三个或三个以上，本发明解决了现有的多晶硅还原炉采用单管喷射式，而造成硅棒沉积不均匀且厚而不彻底，收率低的问题。其结构简单，还原速度大大提高的同时也大大提高了吸收率。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 | ||
【主权项】：
多晶硅还原炉，包括有炉罩(1)、底盘(2)、多晶硅硅棒(3)、进料管(4)、出料管(5)和喷头(6)，其特征在于：炉罩(1)安装在底盘(2)上，底盘(2)上安装有至少一组多晶硅硅棒(3)，同时底盘(2)上还设有与底盘下部的进料管(4)和出料管(5)相连通的喷头(6)，且喷头(6)为三个或三个以上。
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