[发明专利]一种光刻照明系统有效
| 申请号： | 200910145868.X | 申请日： | 2006-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN101587302A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 李仲禹;李铁军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供的光刻照明系统，涉及用于半导体光刻机的照明系统。所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场，所述微透镜阵列模块至少包括一个微透镜阵列和两对刀口阵列，或者两个微透镜阵列和两对刀口阵列。本发明的光刻照明系统结构简单、透过率高，能够产生大小可调节并满足远心要求的一维梯形光强分布照明场。本发明的光刻照明系统可用于248nm、193nm或者其他波长的光刻机上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
1、一种光刻照明系统，其特征在于，所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场。
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