[发明专利]光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开一种光刻设备和一种器件制造方法，其中，所述光刻设备包括相位调节器，用以在衬底上曝光图案期间调节穿过相位调节器的光学元件的光学波的相位。在实施例中，光学元件是光刻设备的投影系统中的热可控的光学元件。在使用时，以包括离轴辐射束的照射模式照射图案。这种束被衍射成相对于光轴相对地且不对称地倾斜的零级和第一级衍射束。识别第一级衍射束穿过光学元件的区域。图案的图像的图像特征通过计算与零级衍射束的光学相位相关的第一级衍射束所需的光学相位进行最优化。相位调节器被控制成将所需的光学相位应用到第一级衍射束。

主权项

1.一种光刻设备，包括：照射系统，其构造成以照射模式调节辐射束，所述照射模式包括从照射极发射的且相对于光轴倾斜一个角度的离轴辐射束；支撑结构，其构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予给所述辐射束以形成图案化的辐射束，并且还能够将所述离轴辐射束衍射成相对于所述光轴相对地且不对称地倾斜的零级衍射束和第一级衍射束；投影系统，其具有光瞳平面，并且构造成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；相位调节器，其构建并配置成调节穿过设置在所述光瞳平面上的所述相位调节器的所述光学元件的辐射束电场相位；和控制器，其构造并配置成获取表示所述图案和表示所述照射模式的数据，以识别所述第一级衍射束穿过所述光瞳平面的区域、通过计算与所述零级衍射束的光学相位相关的所需的所述第一级衍射束的光学相位来最优化所述图案的图像的图像特征、绘制位于所述光学元件的一部分上的所述区域的图、以及提供热到所述部分或从所述部分去除热以依照所需的光学相位来改变所述光学元件的所述部分的折射率。