[发明专利]曝光机的曝光方法有效
申请号: | 200910148715.0 | 申请日: | 2009-06-30 |
公开(公告)号: | CN101937173A | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
发明(设计)人: | 徐福润 | 申请(专利权)人: | 景兴精密机械有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/00 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人: | 周春发;艾晶 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明曝光机的曝光方法,曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿,另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源,再以该光源组依照预设路径位移的方式,让曝光光源到达曝光平台的预定区域,而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影;俾可大幅减少灯泡数量,相对缩减整体曝光机的体积,降低设备成本,以及降低曝光机的聚热现象;尤其,光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域,因此不会浪费不必要的加工成本。 | ||
搜索关键词: | 曝光 方法 | ||
【主权项】:
一种曝光机的曝光方法,其特征在于,在一供承载被加工物及原稿的曝光平台上方处,设有至少一光源组用以产生朝向该曝光平台照射曝光光源,再以该光源组依照预设路径位移的方式,让曝光光源到达该曝光平台的预定区域,而对该曝光平台上的被加工物进行曝光显影。
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