[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910148882.5 | 申请日： | 2005-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101587303A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | B·斯特里克;S·N·L·多德斯;E·R·鲁普斯特拉;J·C·H·穆肯斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。其中供液系统可在投影系统的最后一个元件和基底之间提供浸液。提供一个主动干燥站，用于在浸没基底之后从基底W或其它物体主动去除浸液。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种主动干燥站，用于主动地从浸没式光刻投影设备中的物体去除残留浸液，所述主动干燥站包括：气体流动部件，所述气体流动部件用于在所述物体的表面上形成气流，其中所述气体流动部件包括气体入口和气体出口，所述气体入口用于将气体提供到所述物体的所述表面上的两个位置处，所述气体出口位于所述气体入口之间，用于将气体从所述两个位置之间的一位置去除。
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