[发明专利]处理装置

摘要

本发明提供一种可以减轻设置在被处理体周围的整流壁的弯曲的处理装置，向处理容器(20)的内部供给处理气体，对载置台(3)上载置的被处理体(S)，例如进行蚀刻等处理的处理装置(2)中，整流部件(5)构成为，连接有沿着被处理体(S)的各边延伸的多个整流壁(51)，并包围该被处理体(S)，各整流壁(51)，其两端部被支撑部件(52)支撑，而且，其上缘形成为向该整流壁(51)的中央部逐渐升高的形状，另一方面，下缘形成为与上述载置台的上面平行。

主权项

1.一种处理装置，其特征在于，包括：设置在处理容器的内部，用于载置被处理体的载置台；用于从该载置台的上方侧供给处理气体，对载置在该载置台上的被处理体进行处理的处理气体供给单元；用于排出所述处理容器内气体的气体排气部；连接有多个沿着所述载置台上的被处理体的各边延伸的整流壁，并以包围该被处理体的方式构成的整流部件；以及支撑所述整流壁的两端部的支撑部件，所述整流壁的上缘形成为向该整流壁的中央部逐渐变高的形状，其下缘形成为与所述载置台的上表面平行。