[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910151115.X | 申请日： | 2009-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101634812A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | J·J·库特;D·F·库普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻设备和一种器件制造方法。光刻设备具有：配置用于调节辐射束的照射系统；构造用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；构造用于保持衬底的衬底台，配置用于将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统；和布置成向物体施加力的致动器，其中所述设备包括热膨胀误差补偿装置，该热膨胀误差补偿装置用以避免由致动器或其他热源耗散的任何热导致的所述物体的热膨胀引起的误差。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照射系统，其配置用于调节辐射束；支撑结构，其构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，其构造用于保持衬底；投影系统，其配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；致动器，其布置成定位物体；和热膨胀误差补偿装置，所述热膨胀误差补偿装置用以补偿由致动器或其他热源耗散的任何热导致的、耦合到所述物体的致动器的部分的热膨胀引起的误差。
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