[发明专利]薄膜式转印材料无效
| 申请号： | 200910158106.3 | 申请日： | 2009-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN101630125A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 文熙岏;李炳逸 | 申请（专利权）人： | 可隆股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京华夏博通专利事务所 | 代理人： | 刘 俊 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜式转印材料，该薄膜式转印材料在应用于微影蚀刻制程时，在曝光前除去支撑体膜之后不存在沾染光阻剂层残留物的现象，所以能够提高清晰度。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 式转印 材料 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜式转印材料，其特征在于，包括支撑体膜、光分解性光阻剂层以及保护膜，如以下所定义的第一黏附力为0.1kg/100×100mm2以下，第二黏附力为0.1kg/100×100mm2以下，并且第二黏附力具有小于第一黏附力的值，第一黏附力：在由铟锡氧化物(indium tin oxide，ITO)涂布成厚度![]()
且宽度100×100mm2的玻璃基板上，以速度2.0m/min、温度110℃、加热滚轮压力10-90psi的条件层压薄膜式转印材料后，从光分解性光阻剂层脱模支撑体膜所需的力，第二黏附力：将薄膜式转印材料裁断成宽度100×100mm2后，从光分解性光阻剂层仅脱模保护膜所需的力。
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