[发明专利]用于化学机械研磨的固定环无效
| 申请号： | 200910159031.0 | 申请日： | 2009-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN101987430A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 王大仁;林春宾;张双燻;刘庆冀 | 申请（专利权）人： | 瑞晶电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 中国台湾台中县后里乡三*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于化学机械研磨的固定环。其适于固定晶片。固定环的内壁与晶片接触，且固定环的内壁与晶片之间的总接触长度小于晶片的周长的80％。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 固定 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械研磨的固定环，适于固定一晶片，该固定环的内壁与该晶片接触，且该固定环的内壁与该晶片之间的总接触长度小于该晶片的周长的80％。
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