[发明专利]光吸收构件、加热装置、定影装置及成像设备无效
| 申请号： | 200910159791.1 | 申请日： | 2009-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN101644787A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 金大焕;金朱镐;吴承真;崔善洛;金佑圭 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03G15/20;G03G15/01 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张 波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光吸收构件、加热装置、定影装置及成像设备。本发明公开了一种新的光吸收构件、采用该光吸收构件的加热装置、采用该加热装置的定影装置以及使用该定影装置的成像设备。光吸收构件包括分散在其中的纳米棒，并对于例如采用光源作为辐射热源的定影装置，可以由于表面等离子体共振现象而增大加热装置的吸收效率，该表面等离子体共振现象在光的波长对应于基于纳米棒的高宽比的光吸收率的峰值波长时产生。 | ||
| 搜索关键词： | 光吸收 构件 加热 装置 定影 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光吸收构件，包括：形成在基板上方的一个或多个吸收涂覆层，所述一个或多个吸收涂覆层中的每个都具有分散在其中的多个纳米棒。
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