[发明专利]曝光方法、曝光装置以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200910160494.9 | 申请日： | 2004-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN101614966A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 蛭川茂 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种曝光方法、曝光装置以及器件制造方法。曝光方法为：在包含投影光学系统的投影区域的基板的至少一部分上形成浸渍区域，通过投影光学系统和基板间的液体将掩模的图案的像投影到基板上。计测掩模的图案分布(S1)，使基板曝光时，根据入射到投影光学系统与基板间的液体的曝光光的分布进行调整，使期望的图案的像投影到基板上(S4～S6)。不受掩模图案分布的影响，能够以高精确度使基板图案曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，一边将基板向规定方向移动，一边利用经过液体的曝光光对基板进行曝光，其特征在于：计测与上述规定方向交叉的方向上的上述液体的温度分布，根据上述计测到的温度分布信息来调整对于上述基板的曝光条件，并在调整后的上述曝光条件下对上述基板进行曝光。
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