[发明专利]修正激光处理系统中的系统误差的方法有效
| 申请号： | 200910160580.X | 申请日： | 2006-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101698267A | 公开（公告）日： | 2010-04-28 |
| 发明（设计）人： | S·N·斯瓦林根;K·布鲁兰德;A·韦尔斯 | 申请（专利权）人： | 电子科学工业公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;G06F19/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在三个维度上校正激光微加工系统(20)的方法，其包含：扫描(70)样本工件(22)以决定3D表面；按一系列步骤计算出(72、74、76、78、80、82)对于该扫描数据的最佳拟合表面；以及储存(84)此结果，因而可对后续工件进行校正，以移除由相关的材料处置子系统内的偏差所引入的系统误差。该方法可视需要利用平板弯折理论以将粒子污染模型化，并利用样条函数以片段方式拟合该3D表面，以最小化局部偏差对整个表面拟合的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 修正 激光 处理 系统 中的 系统误差 方法 | ||
【主权项】：
一种检测在校正过的材料处理系统所固定的工件下的粒子污染的方法，其包含：在多个位置执行工件的测量，以建构出该工件的3D图；通过比较预先计算的校正图与该3D测量结果，以校正该3D图；以及通过处理该校正的图以检测粒子污染。
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