[发明专利]光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板、光学补偿薄膜、防反射薄膜及液晶显示装置无效
| 申请号： | 200910161121.3 | 申请日： | 2009-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101704287A | 公开（公告）日： | 2010-05-12 |
| 发明（设计）人： | 竹上龙太;则常雅彦;林直毅 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B29C43/22 | 分类号： | B29C43/22;B29C43/58;B29C43/46;G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种膜的制造方法，包括使含有热塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地加压，从而成形为薄膜状的工序，其中，所述挟压装置施加在该熔融物的压力为20～500MPa，并且使所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。由此，可以制造用于液晶显示装置时可以实现充分的光学补偿、具有特殊内部结构的光学薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 偏振 光学 补偿 薄膜 反射 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
光学薄膜的制造方法，其特征在于，包括使含有热塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地挟压，从而成形为薄膜状的工序，其中，所述挟压装置施加在所述熔融物的压力为20～500MPa，并且使所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910161121.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：灭虫药包
- 下一篇：一种CMMB接收处理模块
