[发明专利]金属微结构形成方法无效

专利信息
申请号: 200910163069.5 申请日: 2009-08-21
公开(公告)号: CN101995766A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 王宏杰;黄雅如 申请(专利权)人: 技鼎股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;C25D5/02
代理公司: 北京华夏博通专利事务所 11264 代理人: 刘俊;孙东风
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种金属微结构形成方法,是应用于微结构组件制造过程,利用本发明的金属微结构形成方法,于形成微结构组件的立体金属微结构时,无须电镀第二种金属以围绕在金属外围、且无须蚀刻第二种金属,而可降低电镀所造成的残留应力、金属层间不会有残留应力,金属所附着的基板不致变形,而不致影响微结构组件后续制造过程进行,且,由于无须蚀刻第二种金属,因而,不会有蚀刻液渗入每层接口的问题,不会造成每层的附着力降低,而不致影响微结构组件的功能。
搜索关键词: 金属 微结构 形成 方法
【主权项】:
一种金属微结构形成方法,应用于微结构组件制造过程,其特征在于,该金属微结构形成方法包含如下步骤:准备一基板;于该基板的表面上相继形成二层以上的金属微结构;以液体来去除该二层以上的金属微结构以外的其它材料,该液体不会蚀刻该二层以上的金属微结构;以及于该基板上得到金属微结构。
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