[发明专利]场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 200910165165.3 申请日: 2003-07-31
公开(公告)号: CN101667624A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 小桥昌浩;半田敬信;荒牧晋司;酒井良正 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 优化支撑性基板的机械特性与有机场效应晶体管的绝缘体层,由此在有机场效应晶体管中获得高迁移率,高导通电流和低漏电流,以及高电流开/关比。场效应晶体管包括提供于支撑性基板(1)上的绝缘体层(3),被绝缘体层(3)隔开的栅电极(2)和有机半导体层(4),如此布置使之与有机半导体层(4)接触的源电极(5)和漏电极(6),其中在绝缘体层屈服点的伸长率ε1(%)大于在支撑性基板屈服点的伸长率ε2(%)。所提供的良好柔韧性,可以限制为减小漏电流而施加的应力可能导致的裂缝,进而获得高迁移率,高导通电流和低漏电流,以及高电流开/关比。
搜索关键词: 场效应 晶体管
【主权项】:
1.一种场效应晶体管,包括绝缘体层,被绝缘体层隔开的栅电极和有机半导体层,如此布置使之与有机半导体层接触的源电极和漏电极,及包含聚合物的支撑性基板,其中在绝缘体层屈服点的伸长率ε1(%)大于在支撑性基板屈服点的伸长率ε2(%),且在支撑性基板屈服点的伸长率ε2(%)至少为3.1(%)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱化学株式会社,未经三菱化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910165165.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top