[发明专利]光掩膜版及光掩膜无效
| 申请号： | 200910166659.3 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101661223A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 长濑博幸 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱 丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光掩膜版及使用该光掩膜版制成的光掩膜，所述光掩膜版的特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引发剂、乙烯性不饱和化合物及粘合剂聚合物的感光层和25℃下的透氧性为50ml/m2·day·atm以上500ml/m2·day·atm以下的阻氧层。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜版 光掩膜 | ||
【主权项】：
1、一种光掩膜版，其特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引发剂、乙烯性不饱和化合物及粘合剂聚合物的感光层和25℃下的透氧性为50ml/m2·day·atm以上500ml/m2·day·atm以下的阻氧层。
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