[发明专利]液体处理装置有效
申请号: | 200910166765.1 | 申请日: | 2009-08-18 |
公开(公告)号: | CN101671084A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 隅仓岬;日高政隆;武本刚;渡边昭二;圆佛伊智朗;信友义弘;田所秀之;原直树 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | C02F9/08 | 分类号: | C02F9/08;C02F9/04;C02F1/32;C02F1/78;C02F1/76 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种液体处理装置,其区分适合臭氧处理的除去对象和适合后期的消毒工序的除去对象,通过各自的处理工序来达成水质目标,降低整体工序的运转成本。该液体处理装置具有注入与臭氧接触槽(2)的被处理水反应的臭氧气体的臭氧发生装置(3)、与臭氧接触槽(2)连接的流路的色度计(8)、与流路连接并具有紫外线灯的紫外线照射槽(6)或对流路注入氯剂的氯注入装置(11)、臭氧发生装置(3)、控制紫外线灯或氯注入装置(11)的控制的控制装置(9)进行输入的输入机构(10),其中,根据来自输入机构(10)的第一水质项目的目标值和由水质计测量的第一水质项目的偏差来控制臭氧发生装置(3)的输出,基于来自输入机构(10)的第二水质项目的目标值,根据第一水质项目和紫外线照射量的关系或第一水质项目和氯剂的注入率的关系来控制紫外线灯的输出或氯注入装置(11)的氯剂的注入率。 | ||
搜索关键词: | 液体 处理 装置 | ||
【主权项】:
1、一种液体处理装置,具有:流入被处理水的第一处理工序;设于与所述第一处理工序连接的流路上的水质计;与该流路连接的第二处理工序;进行所述第一处理工序的水处理强度、第二处理工序的水处理强度的控制的控制装置;对该控制装置进行输入的输入装置,其中,所述控制装置根据从输入装置输入的第一水质项目的目标值和由所述水质计测量的第一水质项目的测量值来控制所述第一处理工序的水处理强度,基于从所述输入装置输入的第二水质项目的目标值并根据所述第一水质项目和第二处理工序的水处理的关系来控制所述第二处理工序的水处理强度。
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