[发明专利]表面发射激光元件、阵列、光学扫描设备和成像装置无效
申请号: | 200910166937.5 | 申请日: | 2009-06-05 |
公开(公告)号: | CN101640377A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 伊藤彰浩;佐藤俊一 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01S5/18 | 分类号: | H01S5/18;H01S5/183;H01S5/42;G02B26/10;G03G15/00;G03G15/01;B41J2/47 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王 冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种表面发射激光元件,其被配置成以在垂直于基底的方向发射光,其包括基底,该基底的主平面的法向相对于[100]结晶取向的一个方向向[111]结晶取向的一个方向倾斜;和台面结构,其形成于基底上、具有带氧化物的窄化结构、且氧化物至少由氧化可被选择性氧化的层的一部分形成的氧化物组成,其中所述氧化物包含铝且包围电流通道区域,其中,平行于基底的台面结构的截面平行于基底表面且同时正交于[100]结晶取向的一个方向和[111]结晶取向的一个方向,并且,穿过电流通道区域中心的第一方向的长度大于平行于所述基底表面并正交于所述第一方向的第二方向的长度。 | ||
搜索关键词: | 表面 发射 激光 元件 阵列 光学 扫描 设备 成像 装置 | ||
【主权项】:
1.一种表面发射激光元件,该表面发射激光元件被配置成在垂直于基底的方向发射光,该表面发射激光元件包括:基底,该基底主平面的法向相对于[100]结晶取向的一个方向朝向[111]结晶取向的一个方向倾斜;以及台面结构,该台面结构形成于所述基底上,且具有带氧化物的窄化结构,其中所述氧化物包含至少由氧化要被选择性氧化的层的一部分而产生的氧化物,且所述氧化物包含铝,且包围电流通道区域;其中:平行于所述基底的台面结构的截面平行于所述基底的表面,并且同时正交于[100]结晶取向的一个方向和[111]结晶取向的一个方向;以及穿过电流通道区域中心的第一方向的长度大于平行于所述基底的表面并正交于所述第一方向的第二方向的长度。
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