[发明专利]光刻投影装置有效
| 申请号： | 200910167452.8 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN101639632A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻投影装置。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统的空间位置的组件。该组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所需空间位置的数量的传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：支撑结构，配置用于保持构图装置，所述构图装置配置用于根据所需的图案对辐射束构图；投影系统，配置用于将带图案的辐射束投影到基底的目标部分上；以及配置用于确定所述构图装置相对于所述投影系统的空间位置的组件，所述组件包括测量单元，所述测量单元具有安装在所述投影系统上的多个传感器，其中，所述测量单元配置用于将辐射束引导到所述构图装置的一部分上，所述部分位于所述构图装置的图案区外部和与所述构图装置的图案区相邻的位置上。
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