[发明专利]含铜蚀刻废液的处理方法与蚀刻溶液再生方法无效

专利信息
申请号: 200910168155.5 申请日: 2009-09-01
公开(公告)号: CN102002729A 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 杨为梁 申请(专利权)人: 金益世股份有限公司
主分类号: C25C1/12 分类号: C25C1/12;C23F1/46
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 陈红
地址: 中国台湾台北市中*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提出含铜蚀刻废液的处理方法。在一电透析步骤中,由含铜蚀刻废液中移除其中所含的铜离子与铵离子,以得到低含铜量处理液。上述低含铜量处理液中铜离子的浓度小于等于约1ppm。在一还原步骤中,将所移除的铜离子还原产生铜、氧化铜和/或氧化亚铜,以及将所移除的铵离子还原而产生氨气。本发明还涉及一种蚀刻溶液的再生方法。
搜索关键词: 蚀刻 废液 处理 方法 溶液 再生
【主权项】:
一种含铜蚀刻废液的处理方法,其特征在于,至少包含:提供一反应槽,其至少包含:一阴极室,其中含有一电解质水溶液且设有一阴极;一废液处理室,其中含有一待处理的含铜蚀刻废液,且该含铜蚀刻废液至少包含铜离子、铵离子与过氧化氢;一第一阳离子透析膜,设于该阴极室与该废液处理室之间;一阳极室,其中含有一重量百分浓度为2‑20%的硫酸溶液且设有一阳极;以及一第二阳离子透析膜,设于该阳极室与该废液处理室之间;以及对该阴极与该阳极通电,以使得:该阳极室中的水分子进行一氧化反应;以及该铵离子与该铜离子穿过该第一阳离子透析膜而进入该阴极室,并于该阴极室中进行一还原反应,以分别产生氨气与铜、氧化铜和/或氧化亚铜,其中该氨气至少部分溶于该电解质水溶液中以使其成为一含氢氧化铵水溶液。
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