[发明专利]感光性组合物和基板的加工基板的制造方法无效
| 申请号： | 200910169157.6 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101673053A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 畠山晶 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/028 | 分类号： | G03F7/028;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱 丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供模具的凹凸随动性良好，且热处理时的膜厚减少小，可以得到良好形状的抗蚀图案的感光性组合物。在1分子中至少含有0.01～99.99质量％的以下的聚合性单体(A)、0～98质量％的1官能以上的聚合性单体(B)(除相当于聚合性单体(A)以外的单体)、0.1～15质量％的光聚合引发剂的感光性组合物，上述聚合性单体(A)在1分子中具有1种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团X和1种以上的官能团Y，以下述曝光条件进行曝光时，官能团X的反应率为50％以上，官能团Y的反应率不足50％，并且以下述曝光条件进行曝光后，再在200℃进行30分钟热处理后，官能团X和官能团Y的反应率均为80％以上。曝光条件：将组合物以使干燥膜厚为6μm的方式涂覆在基板上，使用高压水银灯对所得涂膜在100mJ/cm2的条件下进行曝光，该组合物中，相对于仅含有1种官能团作为聚合性官能团的聚合性单体100质量份，添加有5质量份的2，2-二甲氧基-1，2二苯基乙烷-1-酮作为光聚合引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 组合 加工 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种感光性组合物，其是在1分子中至少含有0.01～99.99质量％的以下的聚合性单体(A)、0～98质量％的1官能以上的聚合性单体(B)、0.1～15质量％的光聚合引发剂的感光性组合物，所述聚合性单体(B)为除相当于聚合性单体(A)以外的单体，所述聚合性单体(A)在1分子中具有1种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团X和1种以上的官能团Y，以下述曝光条件进行曝光时，官能团X的反应率为50％以上，官能团Y的反应率不足50％，并且以下述曝光条件进行曝光后，再在200℃进行30分钟热处理后，官能团X和官能团Y的反应率均为80％以上，曝光条件：将组合物以使干燥膜厚为6μm的方式涂覆在基板上，使用高压水银灯对所得涂膜在100mJ/cm2的条件下进行曝光，所述组合物中，相对于仅含有1种官能团作为聚合性官能团的聚合性单体100质量份，添加有5质量份的2，2-二甲氧基-1，2二苯基乙烷-1-酮作为光聚合引发剂。
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