[发明专利]显示器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910170467.X 申请日: 2005-09-15
公开(公告)号: CN101673758A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 村上智史;大谷久;山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L23/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 林毅斌;李家麟
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种以高成品率、低成本制造高度可靠的显示器件的方法。根据本发明,在像素电极上形成间隔物,以当形成场致发光层时保护像素电极层不因掩模而损伤。此外,通过用密封材料将包含具有水渗透性的有机材料的层密封在显示器件中,并且使密封材料和含有有机材料的层不连接来防止由污染比如水分引起的发光元件的劣化。由于密封材料形成在显示器件中的驱动器电路区的一部分中,因此还可以实现显示器件的帧边框狭窄化。
搜索关键词: 显示 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种显示器件,包括:第一衬底;所述第一衬底上的具有源区、漏区以及沟道区的薄膜晶体管;所述薄膜晶体管上的第一绝缘层;所述第一绝缘层上的第一电极;所述第一电极上的具有到达所述第一电极的开口的第二绝缘层;所述第一电极上并且在所述开口内侧的第三绝缘层;所述第一电极上的场致发光层;所述场致发光层上的第二电极;以及所述第二电极上的第二衬底。
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